問(wèn)題 | 原 因 | 對(duì) 策 |
鍍液分解 | 1.鍍液溫度太高 2.PH值過(guò)高引起沉積 3.局部過(guò)熱 4.槽壁或設(shè)備內(nèi)壁被鍍上化學(xué)鎳層 5.催化劑帶入污染 6.在操作溫度下,一次性補(bǔ)充量太大 7.剝離的鍍層碎片 8.鍍?cè)≈新淙胛廴疚?,灰塵 9.穩(wěn)定劑帶出損失 |
1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,降溫至正常操作范圍 2.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用10%H2SO4調(diào)整PH值至正常值 3.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,使用慢速均勻加熱防止過(guò)熱 4.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用1:1硝酸清洗、鈍化設(shè)備內(nèi)壁 5.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,加強(qiáng)鍍前清洗 6.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,在攪拌下少量多次補(bǔ)充添加 7.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,清理掛具 8.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,改善車(chē)間清潔度 9.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,適當(dāng)添加少量穩(wěn)定劑 |
鍍層結(jié)合強(qiáng)度差或起泡 | 1.表面處理不當(dāng) 2.前處理清洗不夠 3.鋁件鋅酸鹽化不當(dāng) 4.金屬離子污染 5.有機(jī)物質(zhì)污染 6.工件鍍前生銹 7.熱處理不當(dāng) |
1.改進(jìn)除油、酸洗工序 2.改進(jìn)清洗工序 3.分析浸鋅溶液,改進(jìn)浸鋅工藝 4.大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍液 5.用活性炭處理鍍?cè)?br /> 6.縮短工作轉(zhuǎn)移時(shí)間 7.按規(guī)范進(jìn)行熱處理 |
PH值變化快 | 1.前處理溶液帶入污染 2.槽負(fù)載過(guò)大 3.鍍?cè)H值越出緩沖范圍 |
1.改進(jìn)鍍前清洗工序 2.減少裝載量 3.檢查、調(diào)整PH值至最佳操作范圍之內(nèi) |
鍍層粗糙 | 1.鍍?cè)≈袘腋〔蝗芪?br />
2.鍍前清洗不夠 3.PH值過(guò)高 4.鍍槽或?yàn)V芯污染 5.絡(luò)合劑濃度偏低 6.工藝用水污染 7.工作殘留磁性 |
1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,檢查濾芯是否破損 2.改進(jìn)清洗工藝 3.用10%H2SO4調(diào)整PH值至正常 4.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,清洗鍍槽或更換濾芯 5.減少帶出損失檢查補(bǔ)充調(diào)整量 6.使用合格的去離不開(kāi)子水 7.鍍前應(yīng)作消磁處理 |
鍍層針孔 | 1.鍍?cè)≈袘腋〔蝗芪?br />
2.槽負(fù)載過(guò)大 3.有機(jī)物污染 4.金屬離子污染 5.攪拌不充分 |
1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,檢查濾芯,找出污染源 2.減少裝載量 3.用活性炭處理鍍?cè)?br /> 4.大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍?cè)?br /> 5.改進(jìn)攪拌方式,選用工作攪拌 |
漏鍍 | 1.金屬離子污染 2.基體金屬影響(如含鉛合金) 3.鍍?cè)∵^(guò)穩(wěn)定(金屬離子穩(wěn)定劑過(guò)量) |
1.大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍液 2.鍍前預(yù)閃鍍銅或閃鍍鎳 3.大面積假鍍除去或者更換部分鍍液 |
鍍層花斑和氣帶 | 1.攪拌不充分 2.表面預(yù)處理不當(dāng) 3.金屬離子污染 4.工作表面殘留物 5.“彗尾”,氣帶 |
1.改進(jìn)攪拌強(qiáng)度或方式 2.改進(jìn)前處理工序,加強(qiáng)清洗 3.大面積假鍍除去或者更換部分鍍液 4.改進(jìn)鍍前清洗工序,使用不含硅酸鹽的清洗劑 5.重新安排槽內(nèi)工作吊掛位置,改進(jìn)攪拌方式 |
鍍層晦暗失光 | 1.鍍后清洗水污染 2.表面前處理不當(dāng) 3.鍍液PH值,溫度太低 4.還原劑濃度太低 5.鎳離子濃度太低 6.有機(jī)物污染 7.金屬離子污染 8.光亮劑帶出損失 |
1.改進(jìn)鍍后清洗水質(zhì);末道清洗水用去離子水 2.改進(jìn)除油酸洗工序,加強(qiáng)清洗工序 3.用稀NaOH(或NH4OH)調(diào)整,升溫至正常范圍 4.分析鍍?cè)?補(bǔ)充還原劑至正常濃度 5.分析鍍?cè)?補(bǔ)充鎳離子至正常濃度 6.用活性炭處理鍍?cè)?br /> 7.大面積假鍍除去雜質(zhì)量管理或者更換部分鍍液 8.適量補(bǔ)充光亮劑 |
無(wú)鍍速 | 1.穩(wěn)定劑濃度過(guò)高 2.表面未活化 3.基體非催化劑 4.鍍?cè)H值,溫度太低 5.金屬離子污染 |
1.更換部分鍍?cè)?br />
2.改進(jìn)鍍前酸洗、活化方式 3.鍍前表面催化處理,閃鍍鎳,浸膠體鈀活化等 4.用稀NaOH(或NH4OH)調(diào)整,升溫至正常范圍 5.大面積假鍍除去或者更換部分鍍液 |
鍍?cè)≈谐霈F(xiàn)絮狀物 | 1.鍍?cè)H值過(guò)高 2.鍍?cè)≈薪j(luò)合劑濃度太低 3.補(bǔ)充添加速度太快 4.鍍?cè)±匣?/td> | 1.用10%H2SO4調(diào)整PH值至正常 2.添加適量絡(luò)合劑 3.在攪拌下少量多次地補(bǔ)充添加 4.更換部分鍍?cè)』驈U棄鍍?cè)?/td> |
鎳離子消耗快 | 1.槽壁或設(shè)備上鍍上化學(xué)鎳層 2.槽負(fù)載過(guò)大 3.鍍?cè)С鰮p太大 4.鍍?cè)》纸?/td> | 1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用1:1硝酸清洗,鈍化槽壁或設(shè)備 2.減少槽裝載量 3.改進(jìn)工作出槽速度,滴盡鍍液,然后轉(zhuǎn)移清洗 4.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,分析調(diào)整鍍液或廢棄鍍?cè)?/td> |
鍍速低 | 1.鍍?cè)囟绕?br />
2.鍍?cè)H值偏低 3.鎳離子或還原劑濃度偏低 4.金屬離子穩(wěn)定劑濃度太高 5.鍍液老化 |
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